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Deutsches Patent- und Markenamt vereinbart mit Koreanischem Patentamt Pilotprojekt zum Patent Prosecution Highway (PPH)

Pressemitteilung vom 22.03.2010

zwei Personen halten Verträge hoch

Frau Rudloff-Schäffer und Herr Dr. Koh nach der Unterzeichnung

München. Am 12. März 2010 unterzeichneten die Präsidentin des Deutschen Patent- und Markenamtes (DPMA), Frau Rudloff-Schäffer und Herr Dr. Koh, Commissioner des Koreanischen Patentamts (KIPO), die Vereinbarung über ein Pilotprojekt zur beschleunigten Patenterteilung, den so genannten Patent Prosecution Highway (PPH).

Der PPH gibt Anmeldern die Möglichkeit, beim deutschen oder koreanischen Patentamt eine beschleunigte Prüfung zu beantragen. Voraussetzung ist, dass die Erfindung im jeweils anderen Amt vorangemeldet ist und dort ein Patentanspruch für gewährbar erachtet wird. Der Anmelder erhält dann bereits innerhalb von neun Monaten ab Antragstellung und Vorlage der erforderlichen Dokumente einen Erstbescheid. Die beschleunigte Prüfung wird möglich durch den Austausch und die gegenseitige Nutzung von Arbeitsergebnissen.

"Mit der Vereinbarung über das Pilotprojekt mit unseren Kolleginnen und Kollegen vom koreanischen Patentamt erweitern wir konsequent unser PPH-Netzwerk. Wir bieten einem noch größeren Anmelderkreis die Möglichkeit, die Vorteile eines beschleunigten Prüfungsverfahrens zu nutzen. Indem wir die Effizienz und Qualität der internationalen Zusammenarbeit im Patentwesen stärken, begegnen wir wirksam der Herausforderung weiterhin hoher Anmeldezahlen im In- und Ausland." erläutert Frau Präsidentin Rudloff-Schäffer.

Das PPH-Pilotprojekt zwischen dem DPMA und dem KIPO startet am 1. Juli 2010 mit einer Laufzeit von zwei Jahren und der Option auf Verlängerung. Nach Ablauf der Laufzeit werden die Ergebnisse des Pilotprojekts durch beide Ämter evaluiert.

Das Deutsche Patent- und Markenamt hat bereits PPH Pilotprojekte mit dem Japanischen Patentamt (März 2008) und mit dem US-amerikanischen Patentamt (April 2009) aufgenommen. Die Pilotphase des PPH Projekts mit dem Japanischen Patentamt wurde gerade erst um zwei Jahre bis 24. März 2012 verlängert.

Bild: DPMA

Stand: 09.12.2024